表面分析<XPS和AES>引论/当代材料科学与工程译丛
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| 新书城图书编号：289940 |
| 图书ISBN：9787562822264 |
| 出版时间：2008-1-1 |
| 出版社：华东理工大学 |
| 作者：(英)沃茨//沃斯滕霍姆|译者:吴正龙 |
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市场价格：￥28 |
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普通会员：￥22.4
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80折 |
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VIP会员：￥21
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75折 |
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【图书简介】
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本书内容新颖，实用性强，理论联系实际，涉及现代电子能谱的基本理论、仪器结构、实验技术以及有关应用。对于一般性电子能谱基本理论和技术，没有太多赘述，着重讲述了Mono XPS、SAXPS、iXPS、XPS深度剖析、先进的ARXPS、场发射AES(FE—AES)等，及其在冶金学、腐蚀科学、陶瓷材料、催化剂、微电子半导体材料、黏胶科学、聚合物材料等领域中的应用。书中还介绍了现代能谱仪的结构，X射线微聚焦单色器、场发射体、新型离子枪、能量分析器／传输透镜、荷电补偿系统、多通道探测器、平行成像、平行数据采集、数据处理系统等等。这些都是仪器的操作、维护管理人员不可缺少的知识，也是使用电子能谱分析技术的人员需要了解的知识。 本书最后一章，将电子能谱和其他有关分析技术进行了比较，阐明了每种分析技术的特点和应用范围，回答了很多读者所关心的问题。
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【图书目录】
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1 电子能谱：一些基本概念
1.1 表面分析
1.2 能谱标识方法
1.2.1 谱学家标识方法
1.2.2 X射线标识方法
1.3 x射线光电子能谱（XPS）
1.4 俄歇电子能谱（AES）
1.5 扫描俄歇电子显微镜（SAM）
1.6 电子能谱中的分析深度
1.7 比较ⅪPS和AES／SAM
1.8 表面分析设备
2 电子能谱仪构造
2.1 真空系统
2.2 样品
2.3 X射线源
2.3.1 双阳极×射线源
2.3.2 X射线单色器
2.3.3 荷电补偿
2.4 AES的电子枪
2.4.1 电子源
2.4.2 俄歇电子能谱中电子发射体的比较
2.5 电子能谱分析器
2.5.1 筒镜形分析器
2.5.2 半球形分析器
2.6 探测器
2.6 1 通道电子倍增器
2.6 2 通道板
2.7 小面积XPS
2.7.1 透镜限定小面积XPS
2.7.2 源限定小面积XPS
2.8 XPS成像和面分布成像
2.8.1 串行采集
2.8.2 平行采集
2.9 小面积XPS的横向分辨率
2.10 角分辨XPS
3 电子能谱：定性和定量诠释
3.1 定性分析
3.1.1 电子能谱中的干扰特征峰
3.1.2 数据采集
3.2 化学态信息
3.2.1 X射线光电子能谱
3.2.2 电子诱导激发俄歇电子能谱
3.2.3 俄歇参数
3.2.4 化学态图
3.2.5 震激伴峰
3.2.6 多重劈裂
3.2.7 等离激元
3.3 定量分析
3.3.1 影响电子能谱定量分析的因素
3 3.2 XPS定量分析
3.3 3 AES定量分析
4 组分深度剖析
4.1 非破坏性深度剖析方法
4.1.1 角分辨电子能谱
4.1.2 分析深度随电子动能的变化
4.2 惰性气体离子刻蚀深度剖析
4.2.1 溅射过程
4.2.2 实验方法
4.2.3 溅射产额和刻蚀速率
4.2.4 影响刻蚀速率的因素
4.2.5 影响深度分辨的因素
4.2.6 校准
4.2.7 离子枪结构
4.3 机械切削
4.3.1 斜面磨角
4.3.2 球形磨坑
4.4 结束语
5 电子能谱在材料科学中的应用
5.1 引言
5.2 冶金学
5.2.1 晶界偏析
5.2.2 金属合金电子结构
5.2.3 表面工程
5.3 腐蚀科学
5.4 陶瓷和催化剂
5.5 微电子和半导体材料
5.5.1 半导体器件表面AES组分面分布成像
5.5.2 半导体材料的深度剖析
5.5.3 超薄层薄膜的ARXPS研究
5.6 聚合物材料
5.7 黏合科学
6 XPS，AES与其他分析技术的比较
6.1 电子显微镜中的x射线分析
6.2 电子显微镜中的电子分析
6.3 表面分析质谱
6.4 离子散射谱
6.5 结束语
名词术语
缩写词表
表面分析方法简介
表面分析术语
因特网上的表面分析资料
表面分析中的文字标准
附录
附录1 俄歇电子能量
附录2 用AlKα射线获得的结合能表
索引
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